金相试样抛磨过程的控制是一个细致且多步骤的过程，主要涉及磨削和抛光两个关键环节，下面捷宸仪器将根据磨削和抛光两个不同的控制技巧分享给大家。

一、磨削过程控制

选择合适的磨纸或砂轮：根据试样材料的硬度和所需的最终表面粗糙度选择合适的磨纸或砂轮。通常，粗磨时使用粗砂纸，细磨时使用细砂纸。从粗到细逐渐降低砂纸的粗细度，每次更换砂纸时都要改变磨削方向，以确保磨削效果。

均匀施加压力：在磨制过程中，应均匀地施加压力，避免局部过磨或磨削不均，导致试样表面出现划痕或不平整。

交叉磨制：采用交叉磨制的方法，即先沿一个方向磨制，然后旋转90度沿另一个方向磨制，以减少磨痕和提高表面质量。

清洁试样：在每次更换砂纸后，应使用无尘布或刷子清洁试样，去除磨屑和磨削液，防止划伤和污染。

二、抛光过程控制

选择合适的抛光布和抛光液：根据试样材料和所需的表面光洁度选择合适的抛光布（如细绒布、微纤维布等）和抛光液（如氧化铝、金刚石抛光液等）。

均匀移动试样：在抛光过程中，应均匀地移动试样，确保整个试样表面都得到抛光，避免局部过抛或漏抛。

施加适当压力：抛光时施加适当的压力，压力过大可能导致试样表面烧伤，压力过小则影响抛光效果。

使用抛光盘：使用抛光盘可以提高抛光效率和均匀性。抛光盘可以是旋转的，也可以是平面的，根据试样的形状和大小选择合适的抛光盘。

逐步降低抛光液粒度：从粗抛到细抛，逐步降低抛光液的粒度，直至达到所需的表面光洁度。

清洁试样：抛光完成后，使用无尘布或超声波清洗器清洁试样，去除抛光液残留和微细磨屑。

三、其他注意事项

检查试样表面：在磨抛过程中，定期使用放大镜或显微镜检查试样表面，确保磨抛效果符合要求。

使用合适的冷却液：在抛光过程中，适时、适量地使用相应的金相抛光润滑冷却液（抛光液本身或冷却水），控制好抛光布的湿度。

避免污染：确保磨抛环境清洁，避免使用含有酸性或碱性成分的清洁剂，以免产生化学反应影响试样表面。

通过以上方法和技巧的控制，可以有效地制备出高质量、光滑度符合要求的金相试样，为后续的显微观察和分析打下良好的基础。需要注意的是，不同的材料和不同的分析目的可能需要调整磨抛参数和方法，因此在实际操作中应根据具体情况灵活应用这些技巧。